IBS并不是一种塑料,而是一种 薄膜制备技术。IBS是离子束溅射(Ion Beam Sputtering)的缩写,也称为离子束沉积(Ion Beam Deposition)。它是一种物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)技术,通过在真空状态下利用离子源产生高能离子束来轰击靶材表面,溅射出粒子并沉积在衬底表面形成薄膜。
离子束溅射技术具有优异的薄膜质量、低温生长环境和无化学污染的优点,因此主要应用于特殊薄膜制备领域,如高端设备生产中的高质量薄膜制备。
IBS并不是一种塑料,而是一种 薄膜制备技术。IBS是离子束溅射(Ion Beam Sputtering)的缩写,也称为离子束沉积(Ion Beam Deposition)。它是一种物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)技术,通过在真空状态下利用离子源产生高能离子束来轰击靶材表面,溅射出粒子并沉积在衬底表面形成薄膜。
离子束溅射技术具有优异的薄膜质量、低温生长环境和无化学污染的优点,因此主要应用于特殊薄膜制备领域,如高端设备生产中的高质量薄膜制备。
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